【OHKURA大倉】立式熱處理爐 ／ DF1600【OHKURA大倉】立式熱處理爐 ／ DF1600【OHKURA大倉】立式熱處理爐 ／ DF1600本裝置是半導(dǎo)體制造工序——熱處理工序中所使用的立式熱處理爐（擴(kuò)散爐）?，F(xiàn)在在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，開始從大批量生產(chǎn)方式向多品種少量生產(chǎn)方式轉(zhuǎn)變。本裝置可以進(jìn)行小容量、高速處理，而且尺寸小巧，可以設(shè)置在現(xiàn)有的無塵室中。特點■可高速升降溫（支持FTP）通過采用
【OHKURA大倉】立式熱處理爐 ／ DF1600
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■可高速升降溫（支持FTP）
通過采用立式電阻加熱方式的獨特加熱器，可進(jìn)行高速升溫、高速降溫，僅需1臺即可完成高速升降溫處理以及通常處理。
■本公司自主研發(fā)的晶圓轉(zhuǎn)移系統(tǒng)
通過使用本公司自主研發(fā)的晶圓轉(zhuǎn)移系統(tǒng)，實現(xiàn)驅(qū)動部的高可靠性。
■搭載節(jié)距變換設(shè)備
可將晶舟側(cè)溝節(jié)距變換為任意節(jié)距從而轉(zhuǎn)移晶圓。（設(shè)定范圍4.76-9.52mm）晶圓的搬運以片盒到片盒的方式進(jìn)行。
■重視生產(chǎn)率和操作性的裝置
操作部采用帶有觸摸屏的TFT面板，生產(chǎn)率和操作性均十分出眾。
■晶圓可低溫入爐
晶圓可低溫入爐。顯著降低了大氣夾帶的影響。
■可以安全輕松地拆裝反應(yīng)管
利用自動升降機(jī)，可以更加安全輕松地拆裝反應(yīng)管。
■獨有的溫度控制系統(tǒng)
在加熱器及溫度控制系統(tǒng)中采用了獨有的方式，顯著提高溫度恢復(fù)特性。
■可維護(hù)性
設(shè)計合理，即使安裝多臺，也不會降低可維護(hù)性和操作性。
| ●基本規(guī)格 | |
|---|---|
| 結(jié)構(gòu) | 立式下方開放型 |
| 處理晶圓直徑 | φ100mm-φ200mm |
| 處理方式 | 批處理 50片/批處理 |
| 盒子收納 | 包括在制品、監(jiān)控品、虛設(shè)品在內(nèi)最多9盒 |
| 工藝 | WET、DRY、ANNEAL、BAKE etc |
| 使用氣體 | N2、O2、H2 etc |
| 晶圓處理 | 5片/1片切換轉(zhuǎn)移 |
| 升降溫速率 | 升溫 100℃/min max 降溫 50℃/min max |