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OHKURA大倉

貨期短OHKURA大倉 立式熱處理爐 DF2600

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本設(shè)備是立式熱處理爐(擴(kuò)散爐)系統(tǒng),用于半導(dǎo)體制造過程中的熱處理過程。 對(duì)于傳統(tǒng)半導(dǎo)體工廠中使用的大容量泰國熱處理爐和用戶的個(gè)性化要求,我們可以以合理的價(jià)格靈活應(yīng)對(duì)每個(gè)單元的特殊規(guī)格。
長處

■ 性價(jià)比
通過在
引入時(shí)定制客戶支持并縮短啟動(dòng)時(shí)間
,可以以低價(jià)格提供。 ■ 貼合性能 與
現(xiàn)有潔凈室兼容
的設(shè)備概要 外形尺寸:H2600×W900×D1280

■ 維護(hù)性能 由于
主要部件和軟件均為內(nèi)部開發(fā),因此將來
可以
繼續(xù)進(jìn)行維護(hù) ■ 定制性能 可以
進(jìn)行各種定制,以滿足
客戶需求
■ 產(chǎn)品性能 減少占地面積
,可替代
臥式爐
■ 能源性能 通過
開發(fā)
高效加熱器,與本公司相比,實(shí)現(xiàn)了10%的節(jié)能 可選支持高速溫升和溫降以及高溫過程

規(guī)范
- 基本規(guī)格
建設(shè):垂直向下開口
加工晶圓直徑:4,5,6,8 英寸
文件數(shù)量:工藝晶圓:150片(6英寸以下)100片(8英寸以下)
盒式存儲(chǔ) :處理,最多 8 個(gè)暗盒,包括假人(不超過 6 英寸)
處理,最多 6 個(gè)暗盒,包括假人(8 英寸或更?。?/td>
過程:濕式、干式、退火等
用法:N2、O2、H2等
晶圓處理:固定 3 張(標(biāo)準(zhǔn)),一次 5 張/1 張(可選)
上升和下降率:溫升 10°C/min max 溫
降 3°C/min max


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