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OHKURA大倉

倉庫現(xiàn)貨OHKURA大倉 化學清洗裝置(化學回收法) SP4200C

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該設備以化學方式去除 pH 電極上的水垢,專為超聲波清洗或水射流清洗無效的區(qū)域而開發(fā)。 它是一種全自動化學清洗劑,以前是手動執(zhí)行的,并定期注入化學溶液,由Buri清洗,并回收化學溶液。 它對于測量煙氣脫硫設備中的pH值特別有效。 該系統(tǒng)由一個控制面板、一個灌溉器(包括一個電極固定器)、一個化學品罐和一個保持放大器(可選)組成。
長處

■ 控制面板:內置順序電路和電磁閥,用于確定
測量和清洗周期。

■ 化學品罐 由
罐體、支架、電磁閥等組成。

■ 清潔裝置 利用來自控制面板的
信號,將電極支架抬起,在電極附近形成一個空間,用于注入和收集化學溶液。

■ 保持(可選) 在清潔期間,該
裝置立即保持清潔前的 pH 值,并且 pH 值由控制面板的信號保持。


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