HORIBA堀場(chǎng)平板碳傳感器電導(dǎo)儀HE-960LF / FS-09F-1 / 2　

漿料濃度控制的理想選擇

保持漿料的稀釋恒定是有效的。保持適當(dāng)?shù)碾妼?dǎo)率值有助于晶片拋光工藝中的工藝穩(wěn)定性。

即使是高粘度的樣品液（CMP Slurry），也采用了降低樣品液粘附在電極上的風(fēng)險(xiǎn)的傳感器結(jié)構(gòu)。

此外，傳感器采用耐化學(xué)腐蝕的接液材料制成，滿足半導(dǎo)體工藝的清潔度要求。除上述外，還可用于半導(dǎo)體工藝開發(fā)階段的引入，以及控制特殊化學(xué)品的導(dǎo)電性。

特征:

高精度/高穩(wěn)定性

測(cè)量范圍：0 至 2,000 μS/cm，0 至 10,000 μS/cm

重復(fù)性：±0.5% F/S，±1.0% F/S

無金屬污染

由于極性材料使用特殊碳，因此無需擔(dān)心金屬污染洗脫。

配備濃度轉(zhuǎn)換功能

通過輸入化學(xué)濃度和電導(dǎo)率之間的關(guān)系以及溫度特性，可以進(jìn)行兩種濃度轉(zhuǎn)換。特別適用于低濃度化學(xué)品的稀釋控制。

節(jié)省空間

通過比我們傳統(tǒng)的電導(dǎo)率傳感器小型化，提高了安裝布局的自由度。