日本MITSUIELECTRIC三井電氣納米壓印TM-02該裝置的納米壓印裝置可以通過單一單元實現(xiàn)熱固化和光固化兩種方法，并通過來自上方的印刷壓力進行壓印。不僅可以設(shè)定所需的沖壓負(fù)荷/速度、剝離負(fù)荷/剝離速度，還可以將研究開發(fā)樣機生產(chǎn)所需的各種條件和測量結(jié)果記錄在PC上，以便在以后的生產(chǎn)中使用。在設(shè)定條件方面發(fā)揮作用[本機規(guī)格]壓印法熱固化法/光固化法壓力/負(fù)載速度（總壓力）1 至 1000 微米
日本MITSUIELECTRIC三井電氣納米壓印TM-02
該裝置的納米壓印裝置可以通過單一單元實現(xiàn)熱固化和光固化兩種方法，并通過來自上方的印刷壓力進行壓印。
不僅可以設(shè)定所需的沖壓負(fù)荷/速度、剝離負(fù)荷/剝離速度，還可以將研究開發(fā)樣機生產(chǎn)所需的各種條件和測量結(jié)果記錄在PC上，以便在以后的生產(chǎn)中使用。在設(shè)定條件方面發(fā)揮作用
[本機規(guī)格]
| 壓印法 | 熱固化法/光固化法 |
|---|---|
| 壓力/負(fù)載速度（總壓力） | 1 至 1000 微米/秒 |
| 最大負(fù)載 | 從室溫到 250°C |
| 工作尺寸 | 50×50mm |
【測試條件】
負(fù)載檢測
印刷速度
剝離速度
真空度/各溫度
每小時
