先科主要致力于電子半導(dǎo)體材料， 深冷復(fù)合材料以及塑料助劑材料研發(fā)和生產(chǎn)

通過多種方式參與到集成電路（晶圓制造及封裝）、平板顯示（包含LCD及OLED） 等電子制造產(chǎn)業(yè)鏈各個環(huán)節(jié)。

紫外線洗浄改質(zhì)裝置是運(yùn)用短波長紫外線進(jìn)行表面處理、干式清洗的效果而作的試驗機(jī)

利用紫外線（UV）的表面處理方法，使用化學(xué)溶液作為光敏劑，但基本上都是干法工藝，可以在大氣中處理，沒有經(jīng)過特殊改性，質(zhì)量和清潔效果良好。

改性直接提高固體表面的粘合強(qiáng)度，而清洗則通過去除表面形成軟粘合層的有機(jī)污染膜，間接有助于提高粘合強(qiáng)度并穩(wěn)定質(zhì)量。

主要應(yīng)用在 EPROM/Wafer 晶圓/IC芯片光擦除，晶圓光清洗制程，IC封裝/貼合、薄膜、光學(xué)玻璃、晶圓、玻璃面板等的精細(xì)處理的表面改性和清洗。

產(chǎn)品優(yōu)勢:

1、具有高紫外光強(qiáng)輸出,光照面更加均勻

2、專利結(jié)構(gòu)，同時兼容8寸或者12寸晶圓; 

3、紫外強(qiáng)度輸出高達(dá)≥50000μW/cm2,擦除時間更快;

4、可根據(jù)擦除條件或應(yīng)用要求提供專門的定制方案

5、本機(jī)的正面為單開門，試驗品可以很容易的放取。

6、試驗臺到光源使用特定的升降機(jī)可以任意改變高度，照度可以使用照度計測定。

7、機(jī)器內(nèi)部產(chǎn)生的臭氧經(jīng)過特別設(shè)置的排出口排出。

日本SEN紫外線洗浄改質(zhì)裝置主要應(yīng)用在食品包材、PS片材、薄膜表面、衛(wèi)生用品等產(chǎn)品上

廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體集塵電路、LCD液晶面板、大學(xué)研究院校等行業(yè)

京都玉崎專業(yè)為工業(yè)用UV固化系統(tǒng)提供解決方案，歡迎各大公司聯(lián)絡(luò)交流。

京都玉崎專做日本進(jìn)口產(chǎn)品，包含但不限于特殊光源、計測工具、科學(xué)儀器、機(jī)械加工備品、環(huán)境試驗設(shè)備、PC周邊工具等

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